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弹性发射抛光
弹性发射抛光
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年1月22日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和 弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。 基本原理如图1所示，光学元件和弹性变形恢复快的聚氨酯抛光工具浸泡在混合有 弹性发射光学制造技术研究进展 旭为光电术是一种去除函数稳定,超低亚表面缺陷,面向原子级的超光滑加工方法,可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展,归纳 李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云 弹性发射光学制造技术研究 2021年12月30日 — 弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。 基本原理如图1所 弹性发射光学制造技术研究进展
弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下
2021年10月7日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装 弹性发射加工是基于流体动力润滑效应获取超光滑表面的一种重要方式,但是目前该方法在进一步改善粗糙度上遇到瓶颈,本文为了突破这一问题,对双转弹性发射加工技术进行系统研 基于流体动力润滑效应的双转弹性发射加工技术研究 百度学术3 天之前 — 基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球直径及主轴 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2016年11月9日 — 该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式,适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光,可消除抛光纹路,提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度,减少表面损伤。一种弹性发射抛光装置 百度学术
弹性发射光学制造技术研究进展 百度文库
2021年2月22日 — 弹性发射 加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件 的手段。2016年8月12日 — 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可 超精密研磨抛光方法2021年10月8日 — 行弹性发射加工，且实验表明经过该装置弹性发射抛光 后工件表面粗糙度有所降低。 4 结语 弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在 合适的抛光参数下可以使工件表面粗糙度达到纳米级甚 至亚纳米级。弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度文库2021年11月16日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射光学制造技术研究进展 中国光学 中国光学期刊网
浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA
2007年9月24日 — 通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。 近年来，光学及微电子学极大地推动了光学加工技术的发展。大规模或超大规模集成电路对所用基片 (通常为硅、锗等材料)的表面精度提出了很 3 天之前 — 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光 弹性发射光学制造技术研究进展图13 弹性发射加工原理 机理：微切削＋被加工材料的微塑性流动作用 一、 精细与超精细加工技术 ★ 液体动力抛光 工作原理〔图14〕 工具运动方向 抛光工具 抛光工具上开有锯齿槽， 抛光液 磨粒 靠楔形挤压和抛光液的反 弹，增加微切削作用。 工件《超精密加工技术》PPT课件百度文库
一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]百度文库
一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]专利内容由知识产权出版社提供专利名称：一种弹性发射抛光装置 专源自文库类型：实用新型专利 发明人：毛卫平,张清明,杨明洋,刘秦江 申请号：CN 79 申请日： 公开号：CN20614 0239U 公开日借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS2016年11月9日 — 主权项： 1一种弹性发射抛光装置，包括抛光柱自转单元和工件自转单元，所述抛光柱自转单元包括抛光柱、抛光柱自转驱动结构和抛光柱升降结构，所述抛光柱自转驱动结构包括自转轴、电机、同步轮、同步带、轴承、支撑臂，所述抛光柱升降结构包括横梁、导轨、导轨固定梁和气缸，所述工件 一种弹性发射抛光装置 百度学术
超光滑表面加工技术研究进展
2015年7月8日 — Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分 析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去 除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形 态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对2021年1月22日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和 弹性发射光学制造技术研究进展磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing,MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。磁流变液主要由离散的微米级磁性颗粒、载液和表长面活性剂组成。具有磁特性、流变性和稳定性等特点。在无外加磁场时，磁性微粒无规则分布，磁流变液为可流动液体状态;而在外加 磁流变抛光技术 百度百科2018年7月6日 — 光、弹性发射抛光、水面滑行抛光等众多抛光方 法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑 表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更 具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗
弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of
2023年6月25日 — 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立 2019年6月2日 — 0 引言 为解决机械抛光和化学机械抛光过程中磨粒与工件表面刚性接触，造成抛光表面产生细微划痕以及损伤层的难题，国内外学者提出了弹性发射抛光、浮法抛光、动压浮离抛光等非接触抛光加工方法，有效改善了传统抛光加工的刚性接触状态，将磨粒与工件的接触转变为准接触或者非接触 [1]。液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化2023年12月13日 — 基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等等新技术，这些新的加工技术，需要边检测、边修正，不仅加工 一文读懂光学镜片抛光工艺（建议收藏） 知乎弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 深度极小时的状态。 由于磨料处于游离状态，难以形成连续切削。 通过转动和加压，磨料与工件间存在断续研磨 第7章超精密研磨与抛光百度文库
内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究
2019年6月17日 — 技术，其中，弹性发射加工、磁流变抛光和化学机械 抛光等得到了良好的应用。这些抛光方法中弹性发 射加工[3]可以获得超光滑无损表面，但材料去除量 为原子级，效率极低；磁流变抛光[4]适用于各种复 杂曲面的抛光，但磁流变液价格昂贵，成本高2023年8月23日 — 在化学机械抛光（CMP）的世界中，抛光垫的性能决定了处理质量与效率。其中，颗粒度、硬度和弹性是三个决定性的因素。这些特性如何共同作用，以及如何影响抛光过程呢？让我们一起深入探讨。CCMP抛光垫三大特性：颗粒度、硬度与弹性的综合解析2024年6月17日 — 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技晶体元件精密光学元件激光器件非线性光学晶体航空、激光和核聚变等领域的快速发展促使了对光学元件的指标要求越来越高，不仅要求各项 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福 摘要： 本文根据弹性发射加工特点以及其精度要求,搭建了一套用于弹性发射加工的装置,并对抛光过程中的抛光正压力和抛光距离进行了分析,通过对石英玻璃进行抛光实验验证了本装置可以用于弹性发射加工,且抛光后石英玻璃表面粗糙度有所降低弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度学术
第7章 精密研磨与抛光百度文库
二、抛光加工的机理 抛光的机理：1）以磨粒的微小塑性切削生成切屑， 但是它仅利用极少磨粒强制压入产生作用。2）借助磨 粒和抛光器与工件流动摩擦使工件表面的凸凹变平。 软质磨粒机械抛光（弹性发射加工）2022年10月31日 — 任务 32 基于弹性发射抛光技术的单晶硅超光滑表面抛光工艺控制 目标：在已有的流体动压弹性发射抛光装备上，配置专用的抛光液体系，揭示抛光间隙、转动速度、抛光液成分对单晶硅弹性发射抛光效率及表面质量的影响规律，初步获取单晶硅超光滑表面 新工科毕业设计项目指导教师及学生申报通知（原子及近原子 2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。我国突破纳米抛光新工艺中国科学院2024年4月8日 — 磁流变抛光技术研究进展 孙洹（图书馆） 引言 现代科学技术的发展对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下，要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。磁流变抛光技术研究进展西安工业大学图书馆 XATU
石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of
本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体 辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述 2020年3月12日 — 摘要 随着集成电路技术的发展，特别是进入亚微米工艺后，关键尺寸的减小和高密度器件的实现，集成电路材料层之间的平整度变得越来越关键。因为传统的机械抛光方法不可避免地会在金属甚至介电层中产生与器件相同大小的划痕，从而导致光刻中的景深和聚 化学机械抛光建模与应用综述,Nanotechnology Reviews XMOL2018年10月27日 — 的复合作用进行抛光。如中性离子束抛光，弹性发射 加工UUN（UC+=>B UI==,/ N+B*//3），电泳磨削抛 光，化学机械复合抛光等。在传统的抛光中，抛光盘是一个关键的部件。抛 光盘的表面精度对工件的抛光质量和精度有着直接的流体二维振动超光滑表面加工技术2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。我国突破纳米抛光新工艺中国科学院
弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究（可编辑） 豆丁网
2014年8月13日 — 非接触抛光 非接触抛光是指在抛光过程中工具与工间完全分离,直接利用抛光介质如抛 光液 中的游离磨粒,离子,电子等来对工件表面材料产生作用,实现材料微量去除 如液 体喷射抛光、离子束抛光、弹性发射加工等,因为抛光过程中工具与工件是 分离的, 且材料 弹性发射光学制造技术研究进展 优质文献 中国光学期刊网 国家科技图书文献中心 (权威机构) 万方 维普期刊专业版 掌桥科研 查看更多 知网 钛学术 钛学术 (全网免费下载) 《中国光学》官网弹性发射光学制造技术研究进展 百度学术弹性发射加工是基于流体动力润滑效应获取超光滑表面的一种重要方式，但是目前该方法在进一步改善粗糙度上遇到瓶颈，本文为了突破这一问题，对双转弹性发射加工技术进行系统研究，主要研究内容包括： (1)根据装置所需性能，对双转弹性发射加工装置进行设计。基于流体动力润滑效应的双转弹性发射加工技术研究 2017年7月4日 — 中科院长春光机所自上世纪九十年代起专注于 EUV/X 射线成像技术研究，着重开展了 EUV 光源、超光滑抛光技术、EUV 多层膜及相关 EUV 成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。2002 年，研制国内套 EUV 光刻原理装置，实现了 EUV长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术
张云中国科学院大学UCAS
（ 2 ） 一种改进的评价CCOS抛光去除函数误差抑制能力的方法, 2019, 第 5 作者, 专利号: CNA （2） 弹性发射光学制造技术研究进展, Research progress of elastic emission machining in optical manufacturing, 中国光学, 2021, 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的中国光学（中英文）2023年8月27日 — 目前，主要方法有化学机械抛光、弹性发射加工、浮法抛光、离子束抛光等。 纳米级磨料修整可获得超光滑无损伤表面，材料去除率极低，此阶段材料去除量极少，加工时间一般占到总时间的1/5。大尺寸光学玻璃应该如何抛光？聚展2024年3月1日 — 图16弹性发射抛光基本原理图17加工椭球镜母版的EEP设备 目前弹性发射抛光设备主要分为转子式、喷嘴式和振动式三种，喷嘴式适用 于具有驻留时间控制的抛光过程。同济大学王昆等根据弹性发射抛光的运行精度离轴多反共体光学自由曲面磨抛工艺与技术研究pdf 原创力文档
弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下
2021年10月7日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和 材料 去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的2016年8月12日 — 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可 超精密研磨抛光方法2021年10月8日 — 行弹性发射加工，且实验表明经过该装置弹性发射抛光 后工件表面粗糙度有所降低。 4 结语 弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在 合适的抛光参数下可以使工件表面粗糙度达到纳米级甚 至亚纳米级。弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度文库2021年11月16日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射光学制造技术研究进展 中国光学 中国光学期刊网
浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA
2007年9月24日 — 光学零件的加工基本包括切割成型、研磨、抛光三道工序；最终的光学表面质量由抛光决定，因此抛光是最重要的工序。通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。3 天之前 — 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光 弹性发射光学制造技术研究进展图13 弹性发射加工原理 机理：微切削＋被加工材料的微塑性流动作用 一、 精细与超精细加工技术 ★ 液体动力抛光 工作原理〔图14〕 工具运动方向 抛光工具 抛光工具上开有锯齿槽， 抛光液 磨粒 靠楔形挤压和抛光液的反 弹，增加微切削作用。 工件《超精密加工技术》PPT课件百度文库
一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]百度文库
一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]专利内容由知识产权出版社提供专利名称：一种弹性发射抛光装置 专源自文库类型：实用新型专利 发明人：毛卫平,张清明,杨明洋,刘秦江 申请号：CN 79 申请日： 公开号：CN20614 0239U 公开日借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS